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            K-PATENTS - 半導體無塵室製程濃度計 PR-33-S


            無塵室環境之FAB化學液濃度監控
            具網路遙控,您不需進出無塵室即可操作監視

            K-Patents半導體屈折度計PR-33-S即時監控化學液中的濃度於無塵室及fab製程及整合製程機臺中。典型的K-Patents PR-33-S應用類型包括:

             

            ■      避免錯誤的化學液或錯誤的濃度進入製程機臺或wet bench,以及避免昂貴的設備及晶圓毀損。

            ■      協助蝕刻製程的最佳化,以及增加槽體中蝕刻液的使用壽命。

            ■      增加晶圓產出率至最高20%以及減少蝕刻後去除聚合物清潔化學液(例如EKC-265)的消耗量。

            ■      幫助達成CMP slurries的緊密控制以及使拋光製程一致化。

             

            可被監控的化學液種類

            Acetic acid CH3COOH, Acetone CH3COCH3, Ammonia NH4OH, Ammonium fluoride NH4F, Ammonium hydroxide NH4OH, Ammonium sulphate(NH4)2SO4, Citric acid C6H8O7, Chromic acid CrO3, Dilute Hydrofluoric acid DHF, Ferric chloride FeCl2, Formic acid HCO2H, Hydrofluoric acid HF, Hydrochloric acid HCl, Hydrogen peroxide H2O2, Isopropylalcohol IPA, Magnesium chloride MgCl2, Nickel chloride NiCl2, Nitric acid HNO3, Phosphoric acid H3PO4, Potassium hydroxide KOH, Sodium chloride NaCl, Sodium hydroxide NaOH, Sulphuric acid H2SO4, Tetramethyl-ammonium hydroxide TMAH, (CH3)4NOH, etc.

             

             

             

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